感測器製造工藝中表面殘留矽油如何清洗?

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  • 2022-03-26

感測器製造工藝中表面殘留矽油如何清洗? 春風秋月 1級 2020-07-03 回答

感測器屬於精密電子元器件,其製造工藝中有一部分是透過矽油作為介質來形成差壓反饋的,因此需要往感測器中輸入矽油,導致其表面產生殘留矽油,為了不影響後續的工藝流程,需要對矽油油汙進行清洗,通常需要達到中性環保的屬性,靜川矽油清洗劑被廣泛應用於清洗未固化的矽油。

感測器矽油油汙形成的原因:

在差壓感測器中充矽油或者惰性氣體,它所其到的作用是把壓力均勻的作用在感壓膜片上的!在電容式感測器中,壓力、差壓透過隔離膜片和灌充液矽油傳到感測膜片引起位移.感測膜片和兩電容極板之間的電容差由電子部件轉換成輸出的電訊號。例如不鏽鋼感測器很多都是浸泡在矽油裡進行罐充後封口的,所以灌封完後產品表面會有很多矽油,因此需要對矽油進行有效的清洗。

感測器矽油油汙清洗解決方法:

感測器矽油主要是甲基矽油,行業傳統的清洗方法有丙酮以及酒精等清洗方法,但是靜川環保水基矽油清洗劑的清洗操作更加安全簡單,透過水稀釋之後,配合超聲波的使用,使得優質陰離子和非離子表面活化劑精確合成的水多元醇基混合物而產生一種接近中性的濃縮物更加徹底的清洗矽油油汙,但是對已經固化的矽油無法進行清洗。

感測器製造工藝中表面殘留矽油如何清洗? 君不知 1級 2019-12-04 回答

製造微加工電容式超聲感測器的表面微機械工藝

申請號/專利號: 200680006795

本發明涉及製造工藝和相關的微加工電容式超聲感測器,它採用在至少一個面較佳的是兩個面上已由用低壓化學氣相沉積技術或稱lpcvd沉積法沉積的氮化矽的上層9和下層9’覆蓋的商用的矽晶片8。覆蓋晶片8的兩個最優質的氮化矽層9或9’中的一層用作感測器的發射膜。結果,在氮化矽的兩層中的一層上生長形成cmut感測器的微單元陣列6,即,以相對於經典的技術相反的步驟順序在感測器的背部生長微單元陣列6。

申請日: 2006年03月02日

公開日: 2008年09月10日

授權公告日:

申請人/專利權人: 國家研究院;愛沙奧特股份公司;馬西莫·帕帕拉爾多;焦蘇埃·卡利亞諾;亞歷山德羅·斯圖爾特·薩沃亞;亞歷山德羅·卡龍蒂;克里斯蒂納·隆哥;菲利普·加塔

申請人地址: 義大利羅馬

發明設計人: 焦蘇埃·卡利亞諾;亞歷山德羅·卡龍蒂;伊蓮娜·西安希;維托里奧·富格李耶第;安東尼奧·米諾第;亞里山德羅·能希奧尼;馬西莫·帕帕拉爾多

專利代理機構: 上海專利商標事務所

代理人: 馬洪

專利型別: 發明專利

分類號: b06b1/00;b81b3/00

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