光學光刻技術的極限是多少
- 2022-12-01
這要看你的曝光機的精密度,範圍比較大的在2um左右吧,極限肯定要比這個小
奈米尺度你指的是多大?
一般而言,小於1微米就可以成為奈米尺度。現在光學手段的光刻技術(193 nm光刻機)做到22 nm以下沒有問題,看看intel的cpu產品就是最好的例子,但是這種光刻機價格十分昂貴。還有極紫外光刻(10 nm-14 nm光源)也是製備10 nm左右圖形的選擇方案之一。
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這要看你的曝光機的精密度,範圍比較大的在2um左右吧,極限肯定要比這個小
奈米尺度你指的是多大?
一般而言,小於1微米就可以成為奈米尺度。現在光學手段的光刻技術(193 nm光刻機)做到22 nm以下沒有問題,看看intel的cpu產品就是最好的例子,但是這種光刻機價格十分昂貴。還有極紫外光刻(10 nm-14 nm光源)也是製備10 nm左右圖形的選擇方案之一。
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