正型

正型光阻劑及負型光阻劑主要是應用在LED晶片製造的金屬電極蒸鍍Lift-off製程中，由於LED電極所使用的金屬材料不易經由蝕刻的方式製作電路圖形，所以利用拔起（Lift-off）微影製程，得到突起的（Overhang）光阻圖形，使金屬在蒸...

恐龍的足跡可分為正型和負型兩種：正型指的是下凹的足跡，即恐龍踩下的腳印本身被儲存在岩層正面...

所以利用拔起（Lift-off）微影製程，得到突起的（Overhang）光阻圖形，使金屬在蒸鍍過程中不會連續性滿布在光阻劑上，再用去光阻劑的方式將未遭金屬布蓋的光阻部分拔起，完成金屬電極的圖案...