一,怎樣對矽平面工藝中的單晶矽片進行清洗,以去除其表面的油脂和金屬離子
- 2022-08-16
3)裝置組成
裝置組成:清洗裝置主體、移載機械臂、排風系統、電控及操作面板等組成,裝置工藝流向採用“右進左出”。
4)工藝流程
a)工藝流程
->1# 自動上料
->2# 超聲鹼洗->3# 超聲鹼洗->4# QDR清洗
->5# 超聲漂洗->6# 超聲漂洗
->7# 溢流清洗(DI水)
->8# 單晶絨面處理 ->9# 單晶絨面處理 ->10# QDR清洗 (DI水)
->11# 單晶絨面處理 ->12# 單晶絨面處理 ->13# QDR清洗 (DI水)
->13#、14# 之間風淋(Air)
->14# 溢流清洗(DI水)
->14#、15# 之間風淋(Air)
->15# 溢流清洗(DI水)
->16# HCL處理->17# HCL處理
->18# QDR清洗 (DI水)->19# QDR清洗 (DI水)
->20# HF 處理
->21# QDR清洗 (DI水)->22# 溢流清洗(DI水)->23# 溢流清洗(DI水)
->24# 自動下料
搜一下:一,怎樣對矽平面工藝中的單晶矽片進行清洗,以去除其表面的油脂和金屬離子
上一篇:浪漫香榭麗祛斑霜騙人
下一篇:在韶關南華寺怎樣到獅子巖?