下列物質中,常用於在玻璃上刻蝕花紋的是(  )

碳酸鈉(Na2CO3)溶液spanC解析:解:A.稀硫酸和二氧化貨祖順族改樣液矽不反應,不能用於在玻璃上進行刻蝕,故A錯誤...

PCB板電鍍(電鍍鎳金層)和刻蝕之前是不是都要去膜

望達人告知,謝謝提問忘了寫了,電鍍後、刻蝕後都要去膜,這麼理解對嗎...

光刻技術的工藝流程是什麼?

刻蝕刻蝕是透過光刻膠暴露區域來去掉晶圓最表層的工藝,主要目標是將光刻掩膜版上的圖案精確地轉移到晶圓表面...

國產3nm晶片刻蝕機取得突破 美企多次竊取中微專利

近年來,美國半導體裝置公司美國應用材料、泛林研發、維科為了遏制中微的發展,輪番向中微發起了商業機密和專利侵權的訴訟,意欲遏制中微的發展...

等離子表面處理裝置,等離子表面處理裝置

奧坤鑫等離子裝置主要適用於各種材料的表面改性處理:表面清洗、表面活化、表面刻蝕、表面接枝、表面沉積、表面聚合以及等離子體輔助化學氣相沉積:★表面清洗:粘些分息家密輪評植圖項垂接、錫焊、電鍍前的表面處理★表面活化:生物材料的振表面修飾,印刷塗...

等離子清洗機清洗原理

等離子清洗機清洗原理如下:等離子清洗/刻蝕機產生等離子體的裝置是在密封容器中設定兩個電極形成電場,用真空泵實現一定的 真空度 ,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長,受電場作用,它們發生碰撞而形成等離子體,這些離...

哪一巨頭坐擁1016件專利,從65nm升級到5nm?

公司在半導體領域主攻蝕刻機的研發製造,是中國唯一的蝕刻機巨頭...

什麼是光刻技術?

它一般是對半導體進行加工,需要一個有部分透光部分不透光的掩模板,透過曝光、顯影、刻蝕等技術獲得和掩模板一樣的圖形...

光刻 溼刻\幹法刻蝕有何不同

經過電場加速的高能離子轟擊被刻蝕材料,產生損傷的表面,這進一步加速了活性刻蝕反應基團與被刻蝕材料的反應速率,正是這種化學和物理反應的相互促進使得反應離子刻蝕具有上述兩種幹法刻蝕所沒有的優越性:良好的形貌控制能力(各向異性)...

為什麼中國生產不了光刻機

前瞻產業研究院釋出的《2020年中國半導體裝置行業市場研究報告》指出,光刻機發展至今,已經歷了5代產品的迭代,目前第五代EUV光刻機是未來光刻機技術發展的主要方向,目前ASML是全世界唯一一家能夠設計和製造EUV裝置的廠商...

請問液晶顯示屏的內部結構是怎樣的?

4所示的薄膜結構,其流程如下:開始�8�1阻光器加工�8�1濾光器加工�8�1保護清洗�8�1檢測�8�1ITO澱積�8�1檢測�8�1結束上述主要工序或工藝的加工效果示意如圖2...

電腦的晶片是什麼材料做的

光刻蝕這是目前的晶片製造過程當中工藝非常複雜的一個步驟,為什麼這麼說呢...

有誰會FLUENT中的多相流模擬啊,最好是固液兩相的請教!!!

2、瞭解到樓主是用這個軟體對CPU的材料或工藝進行物化分析3、針對論文要求,給出CPU原件材料、散熱器種類、工作原理、引數之類的定量分析CPU材料,工業流程及加工工藝:首先:取出一張利用鐳射器剛剛從類似幹香腸一樣的矽柱上切割下來的矽片,它的...

光刻膠~~光刻膠的概念是什麼?

id=68光刻膠在接受一定波長的光或者射線時,會相應的發生一種光化學反應或者激勵作用...

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