為什麼說7nm是半導體工藝的極限，但現在又被突破了？
由於在光刻中光存在衍射現象以及晶片製造中還要經歷離子注入、蝕刻、等離子沖洗、熱處理等步驟，因此會導致光刻柵長和實際柵長不一致的情況...
晶片內部電路圖該怎麼看啊??
1 快速熱退火 （就是瞬間把整個片子透過大功率燈啥的照到1200攝氏度以上， 然後慢慢地冷卻下來， 為了使得注入的離子能更好的被啟動以及熱氧化）6...
請問整合電路里面的電晶體，電容，電阻是直接在矽片上製得還是把製作好的電晶體裝在上面，謝謝
999%），接著是將些純矽製成矽晶棒，成為製造積體電路的石英半導體的材料，將其切片就是晶片製作具體需要的晶圓...
什麼是微光刻,跟鐳射光刻有什麼區別?
採用鐳射進行光刻的種類和用途很多，直接說鐳射光刻很不科學，因為用鐳射光源進行光刻的有鐳射直寫光刻，準分子鐳射步進式投影光刻，準分子鐳射接觸式光刻等等...
光刻機怎麼製作（最好提供圖文）？
完整的積體電路系統中包含多層結構，電晶體、絕緣層、佈線層等等：搭建迷宮大廈一般的複雜積體電路，需要多層結構因此，在完成一層光刻流程之後，需要把這一階段製作好的晶圓用絕緣膜覆蓋，然後重新塗上光阻，燒製下一層電路結構：多次重複上述操作之後，晶片...
鐳射防偽標籤都需要哪些流程和注意事項
鐳射防偽標籤生產簡要流程▼不同型別的防偽標籤其生產流程有很大差異，下面簡要介紹鐳射防偽標籤生產流程：其流程主要有：第一步：製作設計稿製作設計稿一般是按照客戶的需求做出相應的設計稿件，稿件形成後要及時和客戶溝通，直到客戶確認設計稿件才算完成...
EUV光刻機爭奪戰打響，國產光刻技術難題有何解？
在半導體技術不斷髮展的時代，光刻的精度也在提高，2021年先進工藝就要進入5奈米至3奈米的工藝節點，極紫外光刻成為繞不開的獨木橋，EUV光刻機就是半導體龍頭企業競相購買的焦點...