為什麼說7nm是半導體工藝的極限,但現在又被突破了?

由於在光刻中光存在衍射現象以及晶片製造中還要經歷離子注入、蝕刻、等離子沖洗、熱處理等步驟,因此會導致光刻柵長和實際柵長不一致的情況...

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